你的位置:首页 > 新闻动态 > 行业新闻

韩国国产替代脚步不停,三星进一步推动气态氟化氢国产自制!

2019/10/18 16:45:16      点击:

据媒体报道,三星电子决定与Wonik Materials合作,推动气态氟化氢国产自制,计划于2020年将国产自制蚀刻气体正式用于产线。

这是继前不久韩国业者成功自制液态氟化氢后,尝试进一步降低对日本半导体原材料的依赖。不过氟化氢气体在制程上比液体复杂,业者挑战国产自制的难度较高。

此前,在日本对韩国进行进出口管制之前,韩国半导体大厂三星和SK海力士蚀刻气体主要供应商为昭和电工(Showa Denko),且韩国与日本业界保持着深厚的合作关系,根本不必投入资源、金钱去开发新供应商或推动国产自制。因此,在5年前韩国化学业界的蚀刻气体技术落后日本约15年。

众所周知,在集成电路生产中,产品的洁净度和纯度对半导体产品的品质影响极大,而氟化氢作为在清洗和蚀刻等关键步骤中大量使用的原材料,其产品品质重要性显而易见。而日产氟化氢的厉害之处就在于其超高的纯净度及由此带来的较低的使用成本。

据韩媒报道,韩国化学厂商Wonik Materials日前表示,准备在进口原料之后进行合成、精制加工,逐步提高气态氟化氢的纯度,三星使用的蚀刻气体纯度以99.99999%到99.9999999999%为主,为了将产品纯度提高到这个水平,正与三星合作反复进行测试。蚀刻气体非常重视精密度,测试过程工程需要3~4个月。计划2019年底前完成质量测试,2020年开始用在三星电子的半导体产线。

在原料进口方面,Wonik Materials也积极寻找更多供应商,避免过度集中从日本进口,后续准备也与中国大陆、台湾、欧洲、俄罗斯等地的业者合作。三星电子表示,蚀刻气体国产自制与原料进口来源增加都是积极推动的目标。

SK海力士目前也与关系企业SK Materials合作进行蚀刻气体测试,预定2020年正式将韩制蚀刻气体用于产线。日本政府自7月初进行半导体物资出口管制后,至今对三星电子与SK海力士只各核准1件蚀刻气体的出口申请,两家业者面对用料取得的不确定性,因此积极推动国产自制。